反应磁控溅射沉积纳米多孔BiVO4薄膜光催化剂：总压力和基底的影响

SiavashBakhtiarnia,SaeedSheibani,AlainBillard,EricAubry,MohammadArabPourYazdi

中国有色金属学报（英文版） ›› 2022, Vol. 32 ›› Issue (3) : 957-971.

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中国有色金属学报（英文版） ›› 2022, Vol. 32 ›› Issue (3) : 957-971. DOI: 10.1016/S1003-6326(22)65846-1
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反应磁控溅射沉积纳米多孔BiVO4薄膜光催化剂：总压力和基底的影响

    {{javascript:window.custom_author_cn_index=0;}}
  • {{article.zuoZhe_CN}}
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Deposition of nanoporous BiVO4 thin-film photocatalyst by reactive magnetron sputtering: Effect of total pressure and substrate

    {{javascript:window.custom_author_en_index=0;}}
  • {{article.zuoZhe_EN}}
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{{article.keyPoints_cn}}

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{{article.keyPoints_en}}

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{{article.zhaiyao_cn}}

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{{article.zhaiyao_en}}

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{{article.zuoZheCn_L}}. {{article.title_cn}}[J]. {{journal.qiKanMingCheng_CN}}, 2022, 32(3): 957-971 https://doi.org/10.1016/S1003-6326(22)65846-1
{{article.zuoZheEn_L}}. {{article.title_en}}[J]. {{journal.qiKanMingCheng_EN}}, 2022, 32(3): 957-971 https://doi.org/10.1016/S1003-6326(22)65846-1
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{{article.reference}}

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{{article.copyrightStatement_cn}}
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