基底旋转速度对射频溅射法制备Al掺杂ZnO薄膜结构和性能的影响

E. A. MARTíN-TOVAR, L. G. DAZA, A. J. R. LóPEZ-ARREGUíN, A. IRIBARREN, R. CASTRO-RODRIGUEZ

中国有色金属学报（英文版） ›› 2017, Vol. 27 ›› Issue (9) : 2055-2062.

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基底旋转速度对射频溅射法制备Al掺杂ZnO薄膜结构和性能的影响

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Effect of substrate rotation speed on structure and properties of Al-doped ZnO thin films prepared by rf-sputtering

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